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脉冲电流扩散连接高铌含量β-γ TiAl合金( Joining of β-γ TiAl alloys containing high content of niobium by pulse current diffusion bonding )
Q Gao Z Wang L Zhang G Ge
采用放电等离子烧结技术结合高铌含量的TiAl合金。研究了结合界面的组织特征和再结晶。结果表明,在1150°C、压力为10 MPa的条件下进行脉冲扩散连接（PCDB）,连接时间为20 min,可获得良好的接头。与热压扩散连接相比,PCDB在高温下可以抑制连接界面中的a2相的形成。结合界面的动态再结晶机制为PCDB不连续动态再结晶。在1150°C/10MPa/20min时,PCDB剪切强度最高,达394.8MPa。随着结合温度的升高，断口的晶间断口减少，解理断口增加。
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