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使用仿真、猎户座和校准模型减少来自标记不对称的叠加误差( Reduction in overlay error from mark asymmetry using simulation, ORION, and alignment models )
B Menchtchikov R Socha C Zheng S Raghunathan Philippe Leray
给出了三种最小化对齐标记不对称对叠加变化影响的方法。这些方法包括基于测量的最优颜色加权(OCW)、基于仿真的最优颜色加权和晶圆对准模型映射(WAMM)。与最佳单色配方相比，WAMM和OCW方法在1.3nm(X方向）和1.2nm(Y方向）的覆盖层变化方面有最大的减少。与基于测量的OCW相比，基于仿真的OCW在覆盖变化方面产生了类似的减少，并且基于仿真的OCW具有的优点是可以在标记不对称偏移发生之前确定具有优化权重的扫描仪对准配方。最后，WAMM能够通过使用更优化的高阶晶圆对准配方来减少标记不对称对覆盖层的贡献。WAMM的功能也可以与OCW解决方案相结合。
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