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微加工微波传输线的商业CMOS制造( Micromachined microwave transmission lines by commercial CMOS fabrication )
V Milanovic M Gaitan ED Bowen ME Zaghloul CMOS integrated circuits coplanar waveguides dispersion (wave electric impedance etching field effect MMIC field effect digital integrated circuits integrated circuit layout losses micromachining
在标准CMOS上设计并制作了共面波导，并进行了后处理微加工。传输线布局采用商业CAD工具设计，IC通过商业CMOS铸造厂制造，随后通过无掩模顶面蚀刻悬挂。蚀刻后无损耗硅衬底导致插入损耗、色散特性和相速度显著改善。针对不同的特性阻抗范围，给出了两种布局形式。在微加工前和微加工后的频率范围从1 GHz到40 GHz进行测量。这些显示了数量级的损耗特性的改善。对于整个频率范围，对于50？布局，损耗不超过4 dB/cm。蚀刻前损耗高达38 dB/cm。微机械传输线中的相速度接近自由空间中的相速度
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