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激光直接刻蚀玻璃基板上铟锡氧化石墨烯多层膜的研究( A Study on the Laser Direct Etching of Indium-Tin-Oxide-Graphene Multilayer on Glass Substrate )
Heo Jaeseok Han Jae-Hee Kwon Sang Jik Cho Eou Sik
利用1064 nm调Q掺钕钒酸钇(Nd:YVO4)激光直接制备了一层氧化铟锡(ITO)石墨烯多层膜，以改善石墨烯的脆性和弱粘附性，并在不降低透光率的前提下提高透明导电电极的导电性。由于ITO层的导热系数比玻璃衬底的导热系数高，所以ITO-石墨烯多层膜呈现出比石墨烯单层膜更窄的蚀刻图形。拉曼图谱和激光光谱显示，在较低的激光重合度下，石墨烯被选择性地刻蚀到ITO上，而在较低的激光脉冲能量下，石墨成分被不完全去除。采用优化的激光束条件，通过激光图形化方法制备了ITO-石墨烯电极，并确定了其比ITO电极具有更高的电导率。
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