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含o -硝基苯醚基团的光敏聚酰亚胺的光敏性由添加光酸发生器引起的改善( The improved photosensitivity of photosensitive polyimides containing o‐nitrobenzyl ether groups induced by the addition of photoacid generator )
G Song Y Heo JJ Baek H Lee GY Bae KH Choi W Koh G Shin micropatterning photoacid generator photosensitive polymers polyimide positive photoresist
微图形光酸发生器光敏聚合物聚酰亚胺正性光致抗蚀剂
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