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光活性增强异质结构g-C3N4/h-MoO3的合成:影响因素和机理( Synthesis of Heterostructure g-C3N4/h-MoO3 with Enhanced Photoactivity: Influencing Factors and Mechanism Insight )
Kun Wu Fengrui Li Jia Guo Jian Zou Hao Li Jianding Li Huadong Wu Linfeng Zhang
光催化降解技术是解决日益严重的环境问题的一种很有吸引力的技术。本工作通过简单的混合蒸发和退火工艺制备了G-C3N4/H-MoO3复合光催化剂。制备的G-C_3N_4/H-MoO_3复合材料与纯H-MoO_3和G-C_3N_4以及它们的物理混合物相比具有更高的光催化性能。C-M3复合材料降解四环素(TC)的表观速率常数为0.01273min,分别是MoO3和G-C3N4的8.43和3.13倍。提高的光降解活性是由于展宽的光吸收和更有效的电荷分离。因此，在复合材料中观察到更快的超氧自由基([公式：见正文]O[公式：见正文]和羟基自由基(OH)的生成速率。结果表明,O[公式：见正文]和光生空穴(H[公式：见正文]是光催化降解过程中的主要活性物种,而OH的作用很小,由于能带结构的匹配,形成了直接Z型的G-C3 N4/H-MoO3异质结,并通过自由基捕获实验和密度泛函理论模拟验证了这一结果.
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