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基于WO3/NiO互补特性和高孔结构的高性能电致变色器件( High-Performance Electrochromic Device Based on WO3/NiO Complementary Characteristic and Highly Porous Structure )
H Huang J Tian L Xu Y Gan X Tao W Zhang NIO THIN-FILMS NANOSTRUCTURED TUNGSTEN-OXIDE NICKEL-OXIDE COMPOSITE FILMS NANOPOROUS WO3 INTERCALATION DEPOSITION LITHIUM
分别采用电沉积和化学浴沉积方法制备了高孔三氧化钨(WO3)和氧化镍（NiO）薄膜。两种薄膜在LiClO4/碳酸丙烯酯(PC)电解液中均表现出良好的电致变色性能和循环耐久性。制作了基于WO3/NiO互补结构的组装电致变色器件，用于调制光学透过率。通过透射光谱、循环伏安法(CV)和计时电流法(CA)研究了其电致变色性能。结果表明,非晶态WO3薄膜具有明显的电致变色特性,在550 nm处透射率变化可达65.5%,而多孔性较高的NiO薄膜对Li+的插入/提取反应具有较高的电化学可逆性。电致变色器件在550 nm处表现出83.7%的光调制,远高于单片NiO(38.6%)和WO3(65.5%)薄膜。该装置的显色响应时间约为1.76s，漂白响应时间约为1.54s。光调制量大、开关速度快、循环耐久性好等优点使其在实际应用中具有吸引力。
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