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Nb基体上Nb3Sn镀层的电化学和热合成( Electrochemical and thermal synthesis of Nb3Sn coatings on Nb substrates )
M Lu F Pan H Guo S Huang T Tan
本文对Nb3Sn超导薄膜的电化学和热合成进行了研究。在Nb衬底上电化学沉积青铜层,经700°C非原位真空退火,获得了Nb3Sn薄膜。前驱体是通过电化学沉积在室温下从水溶液中制备的。然后对样品进行精确的电解抛光，以去除表面顶部几微米的残留青铜相，然后对其进行表征。FIB-SEM可以精确测量Nb_3Sn层的厚度,平均厚度为1.2微米。X射线衍射(XRD)图谱证实了立方Nb3Sn相(A15结构）的存在。在这些样品上观察到的最高Tc为17.6K。由于具有优良的薄膜性质和不需要高温处理，这种合成技术为铜基薄膜涂覆超导射频腔开辟了一条新的途径。
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