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低漏电流溶液处理BiFeO3薄膜( Solution-processed BiFeO3 thin films with low leakage current )
Alfredo Blázquez Martínez Nicolas Godard Naveen Aruchamy Cosme Milesi-Brault Torsten Granzow
铋铁氧体(BiFeO3)是一种极具吸引力的多铁性材料，表现出很强的铁电和反铁磁性质。然而，用低成本的溶液沉积方法在技术重要的镀铂硅衬底上生产高质量的定向BiFeO3仍然具有挑战性。本工作采用溶液沉积法在镀铂硅衬底上制备了Mn和Ti共掺杂BiFeO3(BFO)多晶薄膜。采用PbTiO3纳米晶作为BFO薄膜与电极之间的籽晶层，诱导出择优的（100）赝立方取向。我们发现PbTiO3籽晶层的引入大大降低了漏电流。薄膜在低频（300 Hz）表现出优异的室温铁电性能,其类外延剩馀极化高达51微克/厘米,矫顽场为500 kV/厘米。
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