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顺序气相沉积法生长无机/有机杂化手性薄膜( Growth of Hybrid Inorganic/Organic Chiral Thin Films by Sequenced Vapor Deposition )
O Lidor-Shalev R Yemini N Leifer R Nanda M Noked hybrid thin films enantioselectivity chirality molecular layer deposition sequenced vapor deposition
手性纳米表面和纳米膜研究中的一个挑战是设计精确和可控的具有对映体选择性的纳米膜。手性纳米薄膜的可控设计为开发具有纳米结构的手性材料提供了机会。分子层沉积(MLD)是制备无机-有机杂化薄膜的一种先进的表面工程方法，具有理想的嵌入性能；在我们的研究中，这是手性的。以前生长对映体选择性薄膜的尝试主要集中在自组装单层膜或模板辅助合成，其次是去除手性模板。在此，我们报道了一种制备具有可控厚度和可观对映选择性的手性无机-有机杂化纳米薄膜的方法。我们提出了使用MLD反应器进行顺序气相沉积，通过将手性构建块的手性嵌入薄膜中来制备对映选择性薄膜。所制备的薄膜显示出大约20%的对映体选择性和50%以上的对映体选择性。我们表明，我们的手性薄膜的可控合成为在各种模板和三维膜上进行对映选择性涂层提供了机会。
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