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先进的计量离线扫描电镜数据处理( Advanced metrology by offline SEM data processing )
A Lakcher J Ducoté V Farys Loc Schneider M Besacier
当今的技术节点包含越来越复杂的设计，给芯片制造工艺步骤带来越来越大的挑战。需要一个有效的度量方法来评估这些复杂模式的过程可变性，从而提取相关数据来生成过程感知的设计规则，并改进OPC模型。今天，过程可变性主要是通过分析在线监控特性来解决的，这些特性通常是为了支持稳健的测量而设计的，因此并不总是非常能代表关键的设计规则。CD-SEM是用于芯片制造过程的主要光盘计量技术，但它在大量和鲁棒性地测量针尖对针尖、针尖对线、面积或颈缩等度量时受到了挑战。CD-SEM图像包含了许多在计量学中并不总是使用的信息。供应商已经提供了工具，允许工程师提取其特征的SEM轮廓，并将其转换为GDS。轮廓可以被视为形状的签名，因为它包含所有的维度数据。因此，方法是利用CD-SEM获取高质量的图像，然后生成SEM轮廓并创建数据库。轮廓被用来提供离线计量工具，该工具将处理它们以提取不同的度量。在以前的两篇论文中表明，在不同的工艺步骤（光刻、蚀刻、铜CMP）中，使用SEM轮廓和内部离线测量工具对热点进行复杂的测量是可能的。在本论文中，我们将扩展先前提出的方法，以提高其鲁棒性，并结合系统发生学的应用，根据图像的几何接近程度对SEM图像进行分类。
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