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采用热浸镀法在TZM (Mo-0.5Ti-0.1Zr-0.02C)合金表面形成MoSi2和Si/MoSi2涂层( Formation of MoSi2 and Si/MoSi2 coatings on TZM (Mo–0.5Ti–0.1Zr–0.02C) alloy by hot dip silicon-plating method )
Y Zhang K Cui T Fu J Wang L Yu
采用热浸镀硅方法在TZM合金上沉积了MoSi2和Si-MoSi2镀层。复合镀层主要由MoSi2和Si组成，并含有少量的C/SiO2/ZrSi2。复合镀层MoSi2晶粒细小，表面硅浓度较高。沉积时间为10 min时，扩散层主要由MoSi2层和Mo5Si3C层组成。当沉积时间为15～25min时，扩散层分为三层，由Si-MoSi2层、MoSi2层和Mo5Si3界面层组成。梯度结构可以减少涂层与基体之间的应力突变，进一步降低裂纹扩展的可能性。SEM和CLSM结果表明，当沉积时间超过10 min时，大量的MoSi2晶粒被硅层覆盖，导致镀层表面粗糙度很低。Sa和Sq的最低值分别为0.292和0.391μm。同时，当沉积时间为20～25 min时，约65.375%～79.898%的镀层表面被硅覆盖。
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