高光学质量氮化碳薄膜的制备和表征

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作者：scidown 发布时间：2021-07-07 20:55:47 文章标题：

高光学质量氮化碳薄膜的制备和表征

文章作者：

曹丹丹吕荣于安池氮化碳薄膜；两步法；气相沉积；形貌；组成；稳态吸收；荧光光谱；时间相关单光子计数

文章简述：

氮化碳(graphitic carbon nitride,g-CN)作为一种非金属半导体材料已被广泛应用于多种能源相关领域研究中.目前由于制备高质量g-CN薄膜的困难,大大限制了其在实际器件上的应用.本文中,我们报道了一种可制备高光学质量g-CN薄膜的方法:即由三聚氰胺先通过热聚合制备本体g-CN粉末,再由本体g-CN粉末经过气相沉积在ITO导电玻璃或钠钙玻璃基底上制备g-CN薄膜.扫描电子显微镜和原子力显微镜的测量结果表明在ITO玻璃基底上形成的g-CN薄膜形貌结构均一且致密,厚度约为300 nm.扫描电镜能量色散能谱和X射线光电子能谱测量结果表明在ITO玻璃基底上制备的g-CN薄膜的化学组成与本体g-CN粉末的化学组成基本一致.同时,我们发现制备的g-CN薄膜和本体g-CN粉末一样在光照射下可以有效降解亚甲基蓝染料.此外,我们还测量了制备的g-CN薄膜的稳态吸收光谱,稳态荧光光谱,荧光寿命和价带谱,并运用吸收光谱和价带谱数据确定了其能带结构.

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