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脉冲电沉积Cr-WC涂层的结构与性能( Structure and properties of pulse electrodeposited Cr–WC coating )
BK Yadlapalli HS Maharana A Basu
采用直流法和脉冲电流法电沉积了纯Cr和Cr-WC镀层。采用不同的脉冲频率(0，3和5kHz)和不同的纳米碳化钨(WC)负载(0，3,5和7 g l1)进行沉积。涂层的X射线衍射(XRD)结果显示Cr涂层具有BCC结构，随着WC峰的增大，WC峰较小。扫描电镜(SEM)显示，在3 kHz脉冲条件下制备的涂层形貌均匀、精细。而在5kHz脉冲下制备的涂层表现出不均匀的粗大形貌。所有涂层的表面粗糙度均较低，小于1μm。涂层的硬度值主要取决于WC的掺入量。与纯Cr涂层相比，Cr-WC涂层具有优异的摩擦学性能。通过对各种性能的分析，发现Cr-5 g l1 WC(3kHz)在涂层形貌、硬度和磨损性能方面表现出最佳的性能。
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