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高强度光照处理对LeTID -强度和温度依赖性的稳定性和在线可行性( High-intensity illumination treatments against LeTID – Intensity and temperature dependence of stability and inline feasibility )
H Vahlman S Roder J Nekarda S Rein
我们研究了高强度光照处理对光和高温诱导降解（LeTID）的缓解作用，特别强调了内联可行性。在处理之后，我们研究了在接近最近建议的标准的降解条件下的稳定性，该标准允许估计在现场的太阳能组件的工作寿命期间的LeTID行为。随后，我们绘制了在不同的处理强度和温度下，用风冷工具可实现的稳定性。结果表明,当处理时间较短时,合金的稳定性随处理强度的增加而提高,当温度超过250°C时,合金的稳定性随处理温度的升高而急剧下降。然而，当充分增加处理时间时，这些与强度和温度有关的差异基本上消失。我们还研究了黑暗/光照在冷却斜坡中的意义，从LeTID稳定性的角度出发，从处理温度的角度出发。我们基于LeTID的缺陷模型讨论了我们的结果，并提供了在高处理温度下观察到的不稳定性起源的假设。在确定了最佳处理后，我们证明，在一个由仅30 s高强度光照组成的内联可行工艺，并结合在较低强度光照下从工艺温度冷却样品后，由于LeTID引起的能量产额损失减少了60%以上。
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