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电子束光刻逐线法制作等周期平面衍射光栅的角度灵敏度测试( Angle sensitivity testing of equal-period plane diffraction grating fabricated through electron beam lithography line-by-line method )
Yunhui Dong Wei He Wen Zhang Mingli Dong
设计了一种采用电子束光刻逐行法制作的等周期平面衍射光栅，并将其应用于角度灵敏度测试实验中。制作的光栅区尺寸为[公式：见正文]mm,周期为1526 nm。入射光通过Y型光纤传输到固定在角度盘上的准直透镜，通过调整准直透镜可以改变入射光的角度。利用光谱分析仪采集了入射光照射光栅表面产生的衍射光谱。在这个实验中，入射光角固定在25°“公式：见正文”。当光斑水平移动50毫米时，衍射波长基本不变。当入射光角由15[公式：见正文]调整到31[公式：见正文]时,衍射波长由834.03nm变为1589.80nm,角灵敏度为47.508nm/[公式：见正文],线性度为0.9998。
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