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细掺杂hfo2铁电层的极化开关( Polarization switching in thin doped HfO 2 ferroelectric layers )
M Materano PD Lomenzo H Mulaosmanovic M Hoffmann U Schroeder
铁电体在诸如铁电随机存储器和铁电场效应晶体管等器件概念中的应用需要对极化开关机制有很好的理解。虽然已经有几篇关于经典钙钛矿铁电体的报道，但直到最近才开始研究HfO2基层的开关动力学。本文对Kolmogorov-Avrami-Ishibashi(KAI)、成核限制开关(NLS)、Landau-Khalatnikov(LK)和非均匀场机制(IFM)等极化开关模型进行了综述和评价。有关NLS和IFM的数据与本研究中进行的实验进行了比较。由于考虑了薄膜的形貌和畴壁能而排除了KAI模型后,我们得出结论：NLS模型、LK模型和IFM模型并不一定相互排斥,而是从热力学、动力学、统计、微观和/或宏观的角度对开关现象给出了不同的观点。
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